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学术报告——石墨烯的缺陷工程

来源: 时间:2012-07-17

石墨烯的缺陷工程

时间2012719(周四)下午3:30

地点:强磁场科学中心5楼报告厅

摘要 我们通过各种"defects"(包括原子缺陷、应力和双层的转角等)成功实现了石墨烯的能带结构和电学性质的调制。报告将介绍如下工作:(a)利用STM观察到一维原子缺陷在费米面处形成平带(flat bands);(b)系统地研究了转角对双层石墨烯范霍夫奇点的影响证明了费米速度不随转角的改变而变化;(c)通过采用两种不同方法实现了双层石墨烯层间耦合强度的控制,调制了其能带结构和谷间散射;(d)在双层有转角的石墨烯上观察到应力(strain)引起的valley polarization和零外加磁场下的朗道量子化,我们证明这一体系能实现零磁场下的室温quantum valley Hall effect

报告人简介

何林:男,198110月生, 20097月北京大学物理学院博士毕业并获博士学位,20098月起在北京师范大学物理学系工作, 现为副教授,2012年入选北京师范大学京师英才。何林一直从事低维体系的生长与物性研究,长期致力于研究低维体系由于表面/界面效应、量子受限效应、量子相干效应所表现出的新奇物理性质,已经在相关领域取得了一系列国际领先的创新成果。从2007年到现在,共发表60余篇高质量的SCI论文,其中影响因子3以上的论文超过30篇。

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