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通知公告

学术报告——石墨烯的缺陷工程

石墨烯的缺陷工程

时间：2012年7月19日（周四）下午3:30

地点：强磁场科学中心5楼报告厅

摘要： 我们通过各种"defects"(包括原子缺陷、应力和双层的转角等)成功实现了石墨烯的能带结构和电学性质的调制。报告将介绍如下工作：（a）利用STM观察到一维原子缺陷在费米面处形成平带（flat bands）；（b）系统地研究了转角对双层石墨烯范霍夫奇点的影响，证明了费米速度不随转角的改变而变化；（c）通过采用两种不同方法实现了双层石墨烯层间耦合强度的控制，调制了其能带结构和谷间散射；（d）在双层有转角的石墨烯上观察到应力（strain）引起的valley polarization和零外加磁场下的朗道量子化,，我们证明这一体系能实现零磁场下的室温quantum valley Hall effect。

报告人简介：

何林：男，1981年10月生， 2009年7月北京大学物理学院博士毕业并获博士学位，2009年8月起在北京师范大学物理学系工作, 现为副教授，2012年入选北京师范大学“京师英才”。何林一直从事低维体系的生长与物性研究，长期致力于研究低维体系由于表面/界面效应、量子受限效应、量子相干效应所表现出的新奇物理性质，已经在相关领域取得了一系列国际领先的创新成果。从2007年到现在，共发表60余篇高质量的SCI论文，其中影响因子3以上的论文超过30篇。

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